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Metall-Nanopartikel (Metallcluster) besitzen eine Reihe von Eigenschaften, die eine breit gefächerte Anwendung im Bereich der Nanotechnologie eröffnen. Abhängig von Material, Größe und Form zeigen einzelne oder in Arrays regelmäßig angeordnete Metall-Nanopartikel einerseits selbst spezifische optische Effekte, andererseits sind diese Effekte sensitiv auf die unmittelbare Umgebung der Partikel, was z. B. den Aufbau optischer Chemo-, Gas- oder Biosensoren ermöglicht. Bei der Herstellung von Halbleiternanodrähten mittels unterschiedlicher Prozesse werden Metall-Nanopartikel als Aktivator bzw. Katalysator eingesetzt, wobei die Position auf dem Substrat und der Durchmesser der Drähte durch die Metall-Nanopartikel bestimmt werden. Weiterhin lassen sich Metall-Nanopartikel als Ätzmaske zur Herstellung von im nm-Maßstab strukturierten Oberflächen unterschiedlichster Materialien, z. B. zur Herstellung von Stempeln für die Nanoimprint-Lithographie einsetzen. Schwerpunkt des Projektes ist die Ausarbeitung und Optimierung von Prozessen mittels einer alternativen, auf der Herstellung kolloidaler Masken durch Selbstanordnung basierenden Lithographietechnik (Nanosphere Lithography) zur Erzeugung geordneter Arrays von Metall-Nanopartikeln auf verschiedenen Substratoberflächen mit dem Ziel, Größe, Form und Abstand der Partikel im Hinblick auf die o. g. Anwendungen gezielt einstellen zu können.
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Metall-Nanopartikel (Metallcluster) besitzen eine Reihe von Eigenschaften, die eine breit gefächerte Anwendung im Bereich der Nanotechnologie eröffnen. Abhängig von Material, Größe und Form zeigen einzelne oder in Arrays regelmäßig angeordnete Metall-Nanopartikel einerseits selbst spezifische optische Effekte, andererseits sind diese Effekte sensitiv auf die unmittelbare Umgebung der Partikel, was z. B. den Aufbau optischer Chemo-, Gas- oder Biosensoren ermöglicht. Bei der Herstellung von Halbleiternanodrähten mittels unterschiedlicher Prozesse werden Metall-Nanopartikel als Aktivator bzw. Katalysator eingesetzt, wobei die Position auf dem Substrat und der Durchmesser der Drähte durch die Metall-Nanopartikel bestimmt werden. Weiterhin lassen sich Metall-Nanopartikel als Ätzmaske zur Herstellung von im nm-Maßstab strukturierten Oberflächen unterschiedlichster Materialien, z. B. zur Herstellung von Stempeln für die Nanoimprint-Lithographie einsetzen. Schwerpunkt des Projektes ist die Ausarbeitung und Optimierung von Prozessen mittels einer alternativen, auf der Herstellung kolloidaler Masken durch Selbstanordnung basierenden Lithographietechnik (Nanosphere Lithography) zur Erzeugung geordneter Arrays von Metall-Nanopartikeln auf verschiedenen Substratoberflächen mit dem Ziel, Größe, Form und Abstand der Partikel im Hinblick auf die o. g. Anwendungen gezielt einstellen zu können.