Chemische Gasphasenabscheidung dünner Silberschichten aus metallorganischen Precursoren

Im Rahmen dieses Projektes sollen neuartige Precursoren für Silber und ein an diese Precursoren angepasster Abscheideprozess für Siliciumsubstrate mit 150 mm Durchmesser entwickelt werden. Dazu sind im einzelnen folgende Voraussetzungen zu schaffen:(i) Verfügbarkeit zur Abscheidung von Silber einsetzbarer Precursoren(II) Charakterisierter Abscheideprozess zur kontrollierten und homogenen Niederschlagung von Silberschichten auf Substraten von 150 mm Durchmesser. Für spätere Anwendungen in Mikroelektronik und Mikrosystemtechnik wird der Abscheideprozess in der Weise entwickelt, dass Silberschichten auch auf großflächigen Substraten mit hinreichender Schichtdickenhomogenität niedergeschlagen werden können.(iii) Hinreichendes Verständnis der chemisch-kinetischen Reaktionsvorgänge für die Konzeption und Optimierung des Abscheideprozesses(iv) Physikalische Charakterisierung der Silberschichten im Hinblick auf die erwünschte Verwendung in Mikroelektronik und Mikrosystemtechnik.